[发明专利]一种大面积玻璃衬底上倒梯形截面光刻胶掩膜的制备方法在审
| 申请号： | 201710887679.4 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107703718A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 孙晓娟;黎大兵;贾玉萍;刘贺男;宋航;李志明;陈一仁;缪国庆;蒋红;张志伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙)22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种大面积玻璃衬底上倒梯形截面光刻胶掩膜的制备方法，涉及半导体光电子器件技术领域。解决现有图像反转工艺无法应用于大面积玻璃衬底制备倒梯形截面光刻胶掩膜的技术问题。本发明提供的一种大面积玻璃衬底上倒梯形截面光刻胶掩膜的制备方法，在普通的烤箱下即可以得到光刻胶截面的倒梯形，避免了加热板引起大面积玻璃基板炸裂，解决了无法在大面积玻璃基板上实现反转光刻，形成光刻胶倒梯形截面的问题。同时该技术制备光刻胶倒梯形截面的工艺条件宽泛，重复性好，简便易行，无毒无害，便于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大面积 玻璃 衬底 梯形 截面 光刻 胶掩膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种大面积玻璃衬底上倒梯形截面光刻胶掩膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、在大面积玻璃衬底表面旋涂光刻胶；步骤2、利用烤箱烘烤大面积玻璃衬底；步骤3、将带有图形的光刻版与大面积玻璃衬底表面旋涂的光刻胶进行接触曝光；步骤4、再次利用烤箱烘烤接触曝光后的大面积玻璃衬底；步骤5、对再次烘烤后的大面积玻璃衬底表面旋涂的光刻胶进行泛曝光；步骤6、利用显影液进行显影后，在大面积玻璃衬底上获得光刻胶截面为倒梯形的掩膜图形。
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