[发明专利]一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710887878.5 | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN107563354B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 刘智 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种指纹识别单元、指纹识别装置及其指纹识别方法、显示装置，涉及指纹识别技术领域。该指纹识别单元包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率在手指指纹接触时会发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上。用于实现指纹识别。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 指纹识别 单元 装置 及其 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种指纹识别单元，其特征在于，包括：依次层叠设置的第一介质层、第二介质层以及检测单元；还包括：光源，所述光源发出的光射入所述第一介质层；其中，所述第一介质层和/或所述第二介质层的折射率在手指指纹接触时会发生变化，以使所述光源发出的光在所述第一介质层和所述第二介质层界面处发生全反射的条件改变；检测单元，用于检测所述光源发出的光是否透过所述第二介质层照射到所述检测单元上。
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