[发明专利]聚焦监控组件

摘要

本发明属于曝光制程技术领域，提供了一种聚焦监控组件，包括层叠设置的掩膜版和基板，且掩膜版设置于基板的正上方，掩膜版上设有第一图案和多个第一聚焦标识，基板上形成第二图案和多个第二聚焦标识，第一图案内部的最小间隙为第一间隙，第一聚焦标识内部设有第二间隙，第二间隙的尺寸小于或等于第一间隙的尺寸，聚焦监控组件还包括监控模块。本发明通过使第一聚焦标识内的第二间隙的尺寸小于或等于第一图案内部的最小间隙，当光线对掩膜版的解析度增大时，景深减小，第二聚焦标识的内部间隙的形状会发生变化，不能完整显示第一聚焦标识的形状，通过监控模块对第二聚焦标识的形状的变化以实现监控曝光制程的异常。

主权项

1.一种聚焦监控组件，用于曝光制程，其特征在于，包括层叠设置的掩膜版和基板，且所述掩膜版设置于所述基板的正上方，所述掩膜版正上方还设有光源，所述光源的光线垂直射入所述掩膜版，所述掩膜版上设有第一图案和多个第一聚焦标识，所述光源的光线将所述第一图案和所述第一聚焦标识曝光至所述基板，以使所述基板上形成第二图案和多个第二聚焦标识，所述第二图案为所述第一图案在所述基板上的投影，所述第二聚焦标识为所述第一聚焦标识在所述基板上的投影，所述第一图案内部的最小间隙为第一间隙，所述第一聚焦标识内部设有第二间隙，所述第二间隙的尺寸小于或等于所述第一间隙的尺寸，所述聚焦监控组件还包括监控模块，所述监控模块监控所述第二聚焦标识的形状变化以判断所述曝光制程的异常。