[发明专利]无水基板清洁组合物、基板处理方法和基板处理装置在审
| 申请号： | 201710899501.1 | 申请日： | 2017-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN107881032A | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | 姜基文;A·科里阿金;郑仁一;崔海园 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08;C11D7/10;C11D7/26;C11D11/00;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所11410 | 代理人： | 石宝忠 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及无水基板清洁组合物、基板处理方法和基板处理装置。基板清洁组合物包括蚀刻化合物，所述蚀刻化合物提供用于处理基板的组分；和溶剂，所述溶剂溶解所述蚀刻化合物，其中所述基板清洁组合物是不包含水的无水组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 无水 清洁 组合 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基板清洁组合物，包括：蚀刻化合物，所述蚀刻化合物提供用于处理基板的组分；和溶剂，所述溶剂溶解所述蚀刻化合物，其中所述基板清洁组合物是不包含水的无水组合物。
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