[发明专利]OLED显示器的制作方法及OLED显示器有效

专利信息
申请号: 201710899825.5 申请日: 2017-09-28
公开(公告)号: CN107706221B 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 唐甲;张晓星 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56;H01L21/77
代理公司: 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 代理人: 林才桂<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种OLED显示器的制作方法及OLED显示器。该OLED显示器的制作方法,在TFT基板的阳极层上形成防反射层,而后再在防反射层及TFT基板上涂布负性光阻材料,并对负性光阻材料进行曝光及显影形成像素定义层,由于防反射层的存在,能够有效避免在采用两层氧化铟锡夹一层银的结构的阳极层时,对负性光阻材料进行曝光的曝光光线被阳极层反射至与像素区域对应的负性光阻材料上使像素区域产生光阻残留,从而使后续制作在像素区域内的OLED发光层的膜厚均匀,提升OLED显示器的显示品质。
搜索关键词: oled 显示器 制作方法
【主权项】:
1.一种OLED显示器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:/n步骤S1、提供TFT基板(100);/n所述TFT基板(100)包括衬底基板(110)、及设于衬底基板(110)上的阳极层(120);/n步骤S2、在所述TFT基板(100)上形成防反射层(200),所述防反射层(200)形成于阳极层(120)上;对所述防反射层(200)进行图案化,形成多个暴露阳极层(120)的第一开口(210);/n步骤S3、在所述TFT基板(100)及防反射层(200)上形成一层负性光阻材料层(800),对所述负性光阻材料层(800)进行曝光及显影制程,形成像素定义层(300);/n所述像素定义层(300)上设有贯穿像素定义层(300)且对应位于多个第一开口(210)上的多个第二开口(310),多个第二开口(310)及其下方的第一开口(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101);/n步骤S4、在所述TFT基板(100)的多个像素区域(101)内形成OLED发光层(400);/n所述阳极层(120)为两层氧化铟锡夹一层银的结构。/n
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