[发明专利]一种带晶界图案的铝合金二次阳极氧化处理方法

摘要

本发明提供一种带晶界图案的铝合金二次阳极氧化处理方法，包括如下步骤：a、第一次抛光：对铝合金基材表面进行抛光并清洗干净；b、晶界蚀刻；c、第一次阳极氧化；d、第二次抛光：对基材进行抛光处理并清洗干净，使其表面的阳极氧化膜被均匀去除并刚好裸露出底层基材，但保留了晶界凹槽内壁上的氧化膜；e、第二次阳极氧化：对基材进行第二次阳极氧化处理，使其表面除晶界凹槽以外的区域，即晶粒表面生成一层带有所需颜色的氧化膜。本发明通过调整相关成型工艺参数，可以使材料的晶粒尺寸可控分布，但每个晶粒的大小及形状不同，因此整个图案具有唯一性。

主权项

1.一种带晶界图案的铝合金二次阳极氧化处理方法，其特征在于：包括如下步骤：a、第一次抛光：对铝合金基材表面进行抛光并清洗干净；b、晶界蚀刻：采用蚀刻药水浸泡基材，对其表面的晶界进行选择性侵蚀，之后将基材取出依次进行水洗、中和、水洗处理，使材料表面呈现出明显的晶界图案；c、第一次阳极氧化：对基材进行第一次阳极氧化处理，工序为：阳极氧化、清洗、活化、清洗、染色、清洗、封孔、清洗、烘干；使其表面及晶界凹槽内壁上均匀生成一层带有所需颜色的氧化膜；d、第二次抛光：对基材进行抛光处理并清洗干净，使其表面的阳极氧化膜被均匀去除并刚好裸露出底层基材，但保留了晶界凹槽内壁上的氧化膜；e、第二次阳极氧化：对基材进行第二次阳极氧化处理，使其表面除晶界凹槽以外的区域，即晶粒表面生成一层带有所需颜色的氧化膜，工序为：阳极氧化、清洗、活化、清洗、染色、清洗、封孔、清洗、烘干；步骤b中的蚀刻药水由硫酸、磷酸、铝离子、去离子水组成；硫酸与磷酸的体积比为4：0‑1：3，硫酸与磷酸的体积之和与去离子水的体积比为1:3‑3:1，铝离子浓度为0.001‑7g/l。