[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置在审
申请号: | 201710908171.8 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN107623009A | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 王守坤;郭会斌;韩皓;付方彬;宋勇志 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 罗瑞芝,陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置。该阵列基板包括显示区和位于所述显示区周边的非显示区,所述显示区包括多个像素区,所述显示区和所述非显示区均开设有过孔,其中,所述像素区在朝向显示侧的一侧设置有反射层,所述反射层用于反射所述阵列基板的外部光源以形成显示图像;以及,所述显示区和所述非显示区的过孔的区域还至少设置有抗劣化层,所述抗劣化层与所述反射层接触、且相对所述反射层更远离外部光源。该阵列基板及其相应的制备方法,在不增加现掩膜工艺的情况下,通过采用新的材料提高外部光源利用率,还实现了显示区、特别是非显示区的过孔搭接,防止过孔劣化和接触电阻不良,提高产品良率。 | ||
搜索关键词: | 阵列 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,包括显示区和位于所述显示区周边的非显示区,所述显示区包括多个像素区,所述显示区和所述非显示区均开设有过孔,其特征在于,所述像素区在朝向显示侧的一侧设置有反射层,所述反射层用于反射所述阵列基板的外部光源以形成显示图像;以及,所述显示区和所述非显示区的过孔的区域还至少设置有抗劣化层,所述抗劣化层与所述反射层接触、且相对所述反射层更远离外部光源。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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