[发明专利]阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置在审

专利信息
申请号: 201710908171.8 申请日: 2017-09-29
公开(公告)号: CN107623009A 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 王守坤;郭会斌;韩皓;付方彬;宋勇志 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 罗瑞芝,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置。该阵列基板包括显示区和位于所述显示区周边的非显示区,所述显示区包括多个像素区,所述显示区和所述非显示区均开设有过孔,其中,所述像素区在朝向显示侧的一侧设置有反射层,所述反射层用于反射所述阵列基板的外部光源以形成显示图像;以及,所述显示区和所述非显示区的过孔的区域还至少设置有抗劣化层,所述抗劣化层与所述反射层接触、且相对所述反射层更远离外部光源。该阵列基板及其相应的制备方法,在不增加现掩膜工艺的情况下,通过采用新的材料提高外部光源利用率,还实现了显示区、特别是非显示区的过孔搭接,防止过孔劣化和接触电阻不良,提高产品良率。
搜索关键词: 阵列 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括显示区和位于所述显示区周边的非显示区,所述显示区包括多个像素区,所述显示区和所述非显示区均开设有过孔,其特征在于,所述像素区在朝向显示侧的一侧设置有反射层,所述反射层用于反射所述阵列基板的外部光源以形成显示图像;以及,所述显示区和所述非显示区的过孔的区域还至少设置有抗劣化层,所述抗劣化层与所述反射层接触、且相对所述反射层更远离外部光源。
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