[发明专利]掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法有效
| 申请号： | 201710908524.4 | 申请日： | 2017-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN107435131B | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 徐健;刘耀阳 | 申请（专利权）人： | 上海天马微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 王刚;龚敏 |
| 地址： | 201201 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法，涉及蒸镀技术领域，用于改善掩膜版与待蒸镀基板之间的贴合不良，提高蒸镀效果。所述掩膜装置包括铁磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：至少一个蒸镀区域以及至少一个非蒸镀区域；所述蒸镀区域设置有沉积通孔；所述非蒸镀区域包括与所述蒸镀区域相邻的过渡区域，所述过渡区域设置有过渡孔，所述过渡孔的体积小于所述沉积通孔的体积，且从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述过渡孔的体积逐渐减小。上述掩膜装置适用于蒸镀设备中。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 设备 以及 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜装置，其特征在于，所述掩膜装置包括铁磁性材料的掩膜版，所述掩膜版包括：至少一个蒸镀区域以及至少一个非蒸镀区域；所述蒸镀区域设置有沉积通孔；所述非蒸镀区域包括与所述蒸镀区域相邻的过渡区域，所述过渡区域设置有过渡孔，所述过渡孔的体积小于所述沉积通孔的体积，且从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述过渡孔的体积逐渐减小；从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述过渡区域包括依次设置的第一过渡区域和第二过渡区域，所述过渡孔包括第一过渡孔和第二过渡孔，所述第一过渡孔位于所述掩膜版的第一侧，所述第二过渡孔位于所述掩膜版的第二侧，所述第一侧和所述第二侧相对，所述第一过渡区域内，从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述第一过渡孔的体积不变，所述第二过渡孔的体积逐渐减小；所述第二过渡区域内不设置有所述第二过渡孔，从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述第一过渡孔的体积逐渐减小；或者，所述第一过渡区域内，从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述第一过渡孔的体积逐渐减小，所述第二过渡孔的体积不变；所述第二过渡区域内不设置有所述第一过渡孔，从所述蒸镀区域至所述非蒸镀区域的方向上，所述第二过渡孔的体积逐渐减小。
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