[发明专利]化学机械抛光设备及其操作方法

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光设备及其操作方法，化学机械抛光设备包括夹片组件，夹片组件上安装有抛光件；保持环，保持环设在夹片组件上，抛光件位于保持环内；抛光盘，抛光盘设在保持环和抛光件的下方；其特征在于，还包括：保持环调节装置，保持环调整装置包括：调节装置，调节装置包括向上调节保持环的拉杆和向下调节保持环的压杆；压力分布检测装置，压力分布检测装置设在抛光盘上以用于检测保持环与抛光盘以及抛光件与抛光盘之间的压力分布，调节装置根据压力分布检测装置的检测信息调节保持环。根据本发明的化学机械抛光设备，能够保证抛光件抛光后的面形精度，提高抛光效果。

主权项

1.一种化学机械抛光设备，所述化学机械抛光设备包括：夹片组件，所述夹片组件上安装有抛光件；保持环，所述保持环设在所述夹片组件上，所述抛光件位于所述保持环内；抛光盘，所述抛光盘设在所述保持环和所述抛光件的下方；其特征在于，还包括：保持环调整装置，所述保持环调整装置包括：调节装置，所述调节装置包括向上调节所述保持环的拉杆和向下调节所述保持环的压杆；压力分布检测装置，所述压力分布检测装置设在抛光盘上以用于检测所述保持环与所述抛光盘以及所述抛光件与所述抛光盘之间的压力分布，所述调节装置根据所述压力分布检测装置的检测信息调节所述保持环。