[发明专利]含有具多层护膜的低辐射涂层的涂层制品及制备其的方法在审
| 申请号： | 201710916735.2 | 申请日： | 2013-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN107500567A | 公开（公告）日： | 2017-12-22 |
| 发明（设计）人： | 穆罕默德·伊姆兰;弗朗西斯·维尧姆;布伦特·博伊斯 | 申请（专利权）人： | 葛迪恩实业公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 刘培培 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种涂层制品，包括具有红外(IR)反射层的low‑E(低辐射)涂层，夹在至少一对介质层中间。所述红外反射层可以是银(Ag)或包含银的材料，位于一对接触层之间。该低辐射涂层包括具基本金属层(例如，NbZr或Zr)的护膜，其可提高涂层的耐久性，不会大量减退光学特性。该涂层制品可用于构成玻璃窗。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 多层 辐射 涂层 制品 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种涂层制品，包含由玻璃基板支撑的层系，所述层系包括：所述玻璃基板上的第一介质层；所述玻璃基板上的含银的红外反射层，在所述第一介质层之上；所述玻璃基板上的接触层，在所述红外反射层之上并与其直接接触；所述玻璃基板上的含氮化硅的第二介质层，在所述接触层之上；所述玻璃基板上的含铌锆合金的层，在所述含氮化硅的第二介质层之上并与其直接接触，其中所述含铌锆合金的层含有2‑15原子百分比的锆；所述玻璃基板上的含氮化硅的第三介质层，在所述含铌锆合金的层之上并与其直接接触；所述玻璃基板上的含氧化锆的层，在所述含氮化硅的第三介质层之上并与其直接接触，从而所述含铌锆合金的层位于所述含氮化硅的第二介质层和所述含氮化硅的第三介质层之间并与其直接接触，其中，所述含铌锆合金的层的厚度为1‑3nm，且其中，所述含氧化锆的层的厚度为3‑8nm，其中，所述含铌锆合金的层比所述含氮化硅的第二介质层和所述含氮化硅的第三介质层中的每一个薄，并且比所述含银的红外反射层薄，其中，所述含氧化锆的层比所述含氮化硅的第二介质层和所述含氮化硅的第三介质层中的每一个薄，且其中所述涂层仅包含一个银基红外反射层。
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