[发明专利]窄带反射膜的制备方法

摘要

本发明提供了窄带反射膜的制备方法。窄带反射膜包括透明基材层和反射膜系，制备方法包括：提供反射膜系设计模块，反射膜系设计模块中设定：反射膜系中至少存在一个膜系结构为│(α1Hβ1Lα2Hβ2L......αmHβmL)│的膜堆，其中n、m为正整数，且2＜n≤150，3＜m≤50，m＜n，同一个膜堆中的α1，α2，...，αm以及βm，...，β2，β1各自独立地满足同一个余弦波形或正弦波形上的同一递变规律；αi为各光学厚度占λ/4的倍数；根据上述反射膜系设计模块的设定，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于透明基材层的表面，干燥后得到膜堆。

主权项

1.一种窄带反射膜的制备方法，其特征在于，所述窄带反射膜包括透明基材层(10)和反射膜系，反射膜系包括n个高低折射率材料单元，所述高低折射率材料单元依次层叠所述透明基材层(10)的一个表面或两个相对的表面上，各所述高低折射率材料单元包括一个高折射率材料层(21)和与之配对的一个低折射率材料层(22)，所述制备方法包括：提供反射膜系设计模块，所述反射膜系设计模块中设定：所述反射膜系中至少存在一个膜系结构为│(α1Hβ1Lα2Hβ2L...αiHβiL...αmHβmL)│的膜堆(20)，其中，H表示所述高折射率材料层(21)，L表示所述低折射率材料层(22)，n、m为正整数，且2＜n≤150，3＜m≤50，m＜n，同一个所述膜堆(20)中的α1，α2，...，αm以及βm，...，β2，β1各自独立地满足同一个余弦波形或正弦波形上的同一递变规律；对于第i个所述高低折射率材料单元αiHβiL，1≤i≤n,αi表示第i个所述高折射率材料层(21)沿与所述透明基材层(10)垂直的方向上光学厚度占λ/4的倍数，βi表示第i个所述低折射率材料层(22)沿与所述透明基材层(10)垂直的方向上光学厚度占λ/4的倍数，λ为膜堆的监控波长；根据上述反射膜系设计模块的设定，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于所述透明基材层(10)的表面，干燥后得到所述膜堆(20)。