[发明专利]一种由废弃CRT屏玻璃制备微孔高硅氧玻璃粉末的方法

摘要

本发明涉及一种由废弃CRT屏玻璃制备微孔高硅氧玻璃粉末的方法，首先将废弃CRT屏玻璃粉碎至一定细度，向屏玻璃粉中加入20％～50％的B2O3、H3BO3、P2O5、碳酸钾的混合粉末(四种配料的质量配比为60‑80:10‑20:5‑10:1‑10)并充分混合均匀；将混合粉末在1000～1500℃条件下熔炼0～4h；再将熔炼产物在500～650℃条件下分相热处理0～24h；之后将块状产物破碎后酸浸处理。钡和锶的脱出率在98.00％～99.60％之间，所得高硅氧玻璃粉末SiO2含量为88.85％～97.20％，微孔高硅氧玻璃粉末孔隙尺寸范围为5‑300nm。本发明确立的工艺操作简单，钡锶脱除率高，同时可制备出较高经济价值的高硅氧玻璃粉末，因此该发明产业化应用前景广阔。

主权项

一种由废弃CRT屏玻璃制备微孔高硅氧玻璃粉末的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一，前处理工序：将经过锥屏分离后的废弃CRT屏玻璃表面的荧光涂层去除干净，用复合式破碎机将CRT屏玻璃破碎成直径为1～5毫米的颗粒，再用球磨机将CRT屏玻璃颗粒粉磨成20～200目的CRT屏玻璃粉末；步骤二，配料工序：将CRT屏玻璃粉末与B2O3、H3BO3、P2O5和碳酸钾按照一定比例混合均匀，并利用球磨机继续破碎到100～200目(其中B2O3、H3BO3、P2O5和碳酸钾的质量配比为60‑80:10‑20:5‑10:1‑10)，B2O3、H3BO3、P2O5和碳酸钾占混合物总质量的20～50％；步骤三，高温熔炼工序：将混合好的CRT屏玻璃粉末放入到马弗炉中并在1000～1500℃下进行熔炼处理，保温时间为0～4h；步骤四，分相处理工序：将步骤三中高温熔炼处理后的CRT屏玻璃在500～650℃下进行分相处理，保温时间为0.5～24h。步骤五，破碎工序：将步骤四中分相工序处理的块状产物破碎至100～200目；步骤六，酸浸工序：将步骤五中破碎工序处理后的产物依次经过硝酸和硫酸进行酸浸处理，得到酸浸混合物，其中使用的硝酸浓度为0.5～10mol/L，硫酸浓度为0.5～10mol/L；其中，破碎工序处理后的产物和硝酸以及硫酸的体积比均为1:5～100；步骤七，液固分离工序：将步骤六中的酸浸混合物通过离心或者过滤的方法进行液固分离，分别得到酸浸液和固体残渣，将所得固体残渣经水洗、干燥后得到不含重金属钡和锶的微孔高硅氧玻璃粉末；步骤八，酸浸液回收工序：将步骤七得到的酸浸液通过外加硫酸沉淀得到硫酸钡与硫酸锶的方法回收其中的重金属钡和锶，通过冷冻结晶技术回收酸浸液中的硼酸，最后硝酸与硫酸浸出液循环利用。