[发明专利]改性金属硫族化合物的制备方法及发光器件有效
申请号: | 201710940057.3 | 申请日: | 2017-09-30 |
公开(公告)号: | CN109599505B | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 王宇;曹蔚然;李龙基 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 44237 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 官建红 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于显示器件领域,提供了改性金属硫族化合物的制备方法及发光器件。本发明通过提供金属硫族化合物,将金属硫族化合物置于反应室中进行第一改性处理和第二改性处理,得到改性金属硫族化合物。在此制备过程中,第一改性处理通过充分的酸处理,减少了硫族元素的缺陷,并将与硫族元素缺陷态结合的电荷释放出来,同时清除硫族化合物中的氧物种(oxygen species),进而获得更纯净的金属硫族化合物;第二改性处理通过硫醇处理使硫族元素缺陷态和硫醇以共价键的形式进行化学吸附,将硫族元素表面剩余的缺陷消除到最小;由此获得具有较高电荷传输效率的改性金属硫族化合物,提高了器件的发光效率。此外,该制备方法工艺简单,成本低,可实现大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 硫族化合物 改性处理 改性金属 硫族元素 金属硫族化合物 发光器件 缺陷态 硫醇 制备 电荷传输效率 制备方法工艺 电荷释放 发光效率 化学吸附 缺陷消除 显示器件 制备过程 反应室 共价键 酸处理 氧物种 | ||
【主权项】:
1.一种改性金属硫族化合物的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:/n提供金属硫族化合物,将所述金属硫族化合物置于反应室中;/n通入非氧化性酸,对所述金属硫族化合物进行第一改性处理;/n通入硫醇,对经第一改性处理的金属硫族化合物进行第二改性处理,得到改性金属硫族化合物;/n其中,/n所述通入非氧化性酸包括:向非氧化性酸溶液中通入惰性气体,并使惰性气体流向反应室中,向反应室中带入非氧化性酸;/n所述通入硫醇包括:向硫醇溶液中通入惰性气体,并使惰性气体流向反应室中,向反应室中带入硫醇。/n
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H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
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H01L51-54 .. 材料选择
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