[发明专利]掩模组件及通过使用掩模组件制造显示装置的装置和方法有效
申请号: | 201710945433.8 | 申请日: | 2017-10-12 |
公开(公告)号: | CN107946479B | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 李锺大;高政佑;柳英恩;安鼎铉;孔守喆 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供了掩模组件及通过使用掩模组件制造显示装置的装置和方法。通常,当使用掩模组件时,可因掩模组件与沉积源之间的距离而在沉积图案中形成阴影。在这种情况中,从发射层发出的光的强度可能是低的,并且可能没有光从发射层发出。根据实施方式,当在制造显示装置的装置和方法中被使用时,掩模组件使形成发射层时阴影的形成最小化。 | ||
搜索关键词: | 模组 通过 使用 制造 显示装置 装置 方法 | ||
【主权项】:
掩模组件,包括:掩模片;以及多个第一开口和多个第二开口,所述第一开口和所述第二开口位于所述掩模片中的不同位置处,其中所述掩模片在所述多个第一开口之中的两个相邻的第一开口之间的第一厚度与所述掩模片在所述多个第二开口之中的两个相邻的第二开口之间的第二厚度不同。
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