[发明专利]一种粉末包覆原子层沉积装置有效
申请号: | 201710945497.8 | 申请日: | 2017-09-30 |
公开(公告)号: | CN107502873B | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 陈蓉;张晶;王禄荣;曲锴;李嘉伟;段晨龙;竹鹏辉;葛浩然 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学无锡研究院 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 214174 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种粉末包覆原子层沉积装置,其包括粉末容器和反应腔体,反应腔体的一端设置有进源口,进源口中密封设置有用于输入反应气体或载气的进气管,反应腔体的另一端开设有腔门,粉末容器设置于腔门内侧,在动力装置的驱动下可实现旋转,粉末容器上开设有进气孔,进气管通过进气孔进入粉末容器的内腔,反应腔体的内部设置有超声振动杆,粉末容器通过导向装置进入反应腔体后,粉末容器的外侧壁与超声振动杆接触。本发明将旋转方法和超声振动方法相结合,可以利用旋转增大粉末与反应气体的接触概率,也可以利用振动产生的能量解除粉末团聚,使粉末分散,最终在粉末表面包覆均匀致密的薄膜。 | ||
搜索关键词: | 粉末容器 反应腔体 超声振动 包覆 原子层沉积装置 进气管 进气孔 腔门 导向装置 动力装置 反应气体 粉末表面 粉末分散 均匀致密 密封设置 内部设置 输入反应 一端设置 振动产生 外侧壁 内腔 载气 薄膜 团聚 驱动 概率 | ||
【主权项】:
1.一种粉末包覆原子层沉积装置,包括粉末容器和反应腔体,其特征在于,所述反应腔体的一端设置有进源口,所述进源口中密封设置有用于通入反应气体或载气的进气管,所述反应腔体的另一端开设有腔门,所述粉末容器设置于腔门内侧且在动力装置的驱动下旋转,所述粉末容器上开设有进气孔,所述进气管通过所述进气孔进入所述粉末容器的内腔,所述反应腔体的内部设置有超声振动杆,所述粉末容器通过导向装置进入所述反应腔体后,所述粉末容器的外侧壁与所述超声振动杆接触,所述粉末容器的内部沿轴向设置有用于增大粉末与容器接触面积的内网。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的