[发明专利]一种红外探测器芯片电极的制造方法有效
申请号: | 201710946310.6 | 申请日: | 2017-10-12 |
公开(公告)号: | CN107845693B | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 张轶;张敏 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L27/146 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 田卫平 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供的红外探测器芯片电极的制造方法,包括:在红外探测器芯片上涂光刻胶,以生成光刻胶层;对光刻胶层进行图形曝光;按照预设固胶显影方法,在曝光处理后的红外探测器芯片上生长三维胶形;在生长有三维胶形的红外探测器芯片上溅射合金;对溅射有合金的红外探测器芯片进行金属刻蚀处理,得到红外探测器芯片的三维合金电极。该方法制造的三维合金电极,可以降低对红外探测器芯片平坦度的要求,与外电路连接较为方便,并且对温度变化产生的应力的耐受度比较高,制造方法较为简便,能够提高小像元间距、大像元面阵的红外探测器芯片的可靠性,解决了现有技术的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 红外探测器 芯片 电极 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种红外探测器芯片电极的制造方法,其特征在于,包括:在红外探测器芯片上涂光刻胶,以生成光刻胶层;对所述光刻胶层进行图形曝光;按照预设固胶显影方法,在曝光处理后的所述红外探测器芯片上生长三维胶形;在生长有三维胶形的所述红外探测器芯片上溅射合金;对溅射有合金的所述红外探测器芯片进行金属刻蚀处理,得到所述红外探测器芯片的三维合金电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的