[发明专利]一种红外探测器芯片电极的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710946310.6 申请日: 2017-10-12
公开(公告)号: CN107845693B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 张轶;张敏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L27/146
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 田卫平
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供的红外探测器芯片电极的制造方法,包括:在红外探测器芯片上涂光刻胶,以生成光刻胶层;对光刻胶层进行图形曝光;按照预设固胶显影方法,在曝光处理后的红外探测器芯片上生长三维胶形;在生长有三维胶形的红外探测器芯片上溅射合金;对溅射有合金的红外探测器芯片进行金属刻蚀处理,得到红外探测器芯片的三维合金电极。该方法制造的三维合金电极,可以降低对红外探测器芯片平坦度的要求,与外电路连接较为方便,并且对温度变化产生的应力的耐受度比较高,制造方法较为简便,能够提高小像元间距、大像元面阵的红外探测器芯片的可靠性,解决了现有技术的问题。
搜索关键词: 一种 红外探测器 芯片 电极 制造 方法
【主权项】:
1.一种红外探测器芯片电极的制造方法,其特征在于,包括:在红外探测器芯片上涂光刻胶,以生成光刻胶层;对所述光刻胶层进行图形曝光;按照预设固胶显影方法,在曝光处理后的所述红外探测器芯片上生长三维胶形;在生长有三维胶形的所述红外探测器芯片上溅射合金;对溅射有合金的所述红外探测器芯片进行金属刻蚀处理,得到所述红外探测器芯片的三维合金电极。
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