[发明专利]衬底处理设备

摘要

本发明的衬底处理设备包括腔室，具有衬底处理空间；及线圈部分，具有多个电感线圈，其的每一者具有缠绕成包围腔室的外圆周的形状且排列在腔室的延伸方向上，多个电感线圈包括边缘型电感线圈，在腔室中形成在与衬底的边缘区域对应的区域处的密度高于在与衬底的中心区域对应区域处的密度的等离子体；及中心型电感线圈，在腔室中形成在与衬底的中心区域对应的区域处的密度高于在与衬底的边缘区域对应区域处的密度的等离子体。本发明的实施例带来等离子体的空间均匀度提高而衬底处理均匀度提高的效果。且通过在上下方向上堆叠及安装多个电感线圈带来与衬底处理面对应形成的等离子体容量增大而随处理区域而变化的等离子体密度增大的效果。

主权项

一种衬底处理设备，其特征在于，包括：腔室，具有衬底处理空间；以及线圈部分，具有多个电感线圈，所述多个电感线圈中的每一者具有被缠绕成包围所述腔室的外圆周的形状且排列在所述腔室的延伸方向上，其中所述多个电感线圈包括：边缘型电感线圈，在所述腔室中形成在与所述衬底的边缘区域对应的区域处的密度相对高于在与所述衬底的中心区域对应的区域处的密度的等离子体；以及中心型电感线圈，在所述腔室中形成在与所述衬底的所述中心区域对应的所述区域处的密度相对高于在与所述衬底的所述边缘区域对应的所述区域处的密度的等离子体。