[发明专利]一种中阶梯光栅用铝薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710952060.7 申请日: 2017-10-13
公开(公告)号: CN107783214A 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 黄建明;杨敏 申请(专利权)人: 苏州领锐源奕光电科技有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;C23C14/30;C23C14/14
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 巩克栋
地址: 215200 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种中阶梯光栅用铝薄膜的制备方法。本发明的中阶梯光栅用铝薄膜的制备方法,包括如下步骤采用电子束蒸发技术在基底材料上沉积一层金属铝薄膜;其中,所述铝薄膜的厚度为7~10微米。本发明采用电子束蒸发替代传统的金属薄膜沉积工艺,通过提高薄膜沉积速率,最大限度抑制基片表面的温升,减少厚铝膜内部缺陷的产生以提高其致密度、降低表面粗糙度,制得的铝薄膜的厚度为7~10微米,薄膜质量性能好,达到中阶梯光栅用铝膜的刻划要求。
搜索关键词: 一种 阶梯 光栅 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种中阶梯光栅用铝薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:采用电子束蒸发技术在基底材料上沉积一层金属铝薄膜;其中,所述铝薄膜的厚度为7~10微米。
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