[发明专利]晶片边缘的测量和控制

摘要

提供用于定位和/或旋转非固体接触的基板(诸如使晶片浮动于气体薄层上)的装置和方法。由于与处理腔室的各部件无固体接触，因此使用晶片上的各特征结构来确定晶片位置和旋转速度。闭环控制系统设置有电容式传感器，以监测晶片边缘在水平平面中的位置。控制系统也可以于晶片旋转时监测晶片特征结构的位置，诸如监测晶片边缘中的凹口。因为凹口的存在可能中断面向晶片边缘的传感器，因此还提供用以减少或消除这种中断的方法和装置。

主权项

一种用于处理基板的设备，所述设备包括：腔室主体，所述腔室主体界定内部容积；基板定位组件，所述基板定位组件设置在所述内部容积中，其中所述基板定位组件能够至少于水平平面内定位和旋转基板；第一电容式传感器，所述第一电容式传感器设置在所述内部容积中，其中所述第一电容式传感器被定位成面向所述基板的切线、位于与所述基板的圆周具有相同的尺寸的圆的第一位置处，以于第一边缘位置处检测所述基板的边缘位置；第二电容式传感器，所述第二电容式传感器设置在所述内部容积中，其中所述第二电容式传感器被定位成面向所述基板的切线、位于与所述基板的圆周具有相同的尺寸的圆的第二位置处，以于第二边缘位置处检测所述基板的边缘位置，其中所述第一电容式传感器和所述第二电容式传感器定位于绕着所述圆的圆周为小于180度的分离角度处；第三电容式传感器，所述第三电容式传感器设置在所述内部容积中、所述第一电容式传感器与所述第二电容式传感器之间的位置处，被定位成比所述第一电容式传感器和所述第二电容式传感器更靠近所述基板的宽度的中点，被定位成使得所述基板的边缘不进入所述第三电容式传感器的视场中，并且被定位成检测所述基板的垂直位置；旋转传感器，所述旋转传感器设置成监测所述基板上的非均匀性部分的位置并且追踪所述基板的角位置和/或旋转；以及灯，所述灯设置成向所述基板的下侧提供背光。