[发明专利]蒸发源装置以及溅射镀膜设备

摘要

本发明属于蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸发源装置以及溅射镀膜设备，其中，蒸发源装置包括具有蒸发腔的蒸发箱、置于蒸发腔内的坩埚，坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的存药腔，蒸发箱于其侧壁开设于蒸发腔连通与真空镀膜室对接的出料口，其特征在于，蒸发源装置还包括用于驱动坩埚以使坩埚在初始状态和蒸镀状态之间切换的驱动机构，坩埚在初始状态时存药腔腔口朝上设置，而在蒸镀状态时存药腔腔口朝向出料口设置。基于本发明的结构设计，减少了气化的药液进入到真空镀膜室的路径，有利于减少药液的浪费。

主权项

一种蒸发源装置，与真空镀膜室配合使用，包括具有蒸发腔的蒸发箱、置于所述蒸发腔内的坩埚，所述坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的存药腔，所述蒸发箱于其侧壁开设于蒸发腔连通与所述真空镀膜室对接的出料口，其特征在于，所述蒸发源装置还包括用于驱动所述坩埚以使所述坩埚在初始状态和蒸镀状态之间切换的驱动机构，所述坩埚在初始状态时所述存药腔腔口朝上设置，而在所述蒸镀状态时所述存药腔腔口朝向所述出料口设置。