[发明专利]基于多层膜与光子晶体的偏振光谱伪装结构有效

专利信息
申请号: 201710984347.8 申请日: 2017-10-20
公开(公告)号: CN107631663B 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 朱启凡;刘智颖;高柳絮;罗宇 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: F41H3/02 分类号: F41H3/02;B32B9/00;B32B9/04
代理公司: 北京中理通专利代理事务所(普通合伙) 11633 代理人: 刘慧宇
地址: 130022 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 基于多层膜与光子晶体的偏振光谱伪装结构,属于偏振光谱伪装技术领域,为了解决现有技术无法完全实现裸眼伪装效果的问题,该结构分为两部分,上部分从上到下依次由TiO2层、SiO2层和TiO2层三层膜构成,膜层厚度分别为d1、d2和d3,该结构在特定角度下实现偏振分光特性,并利用布儒斯特角θb将S波、P波分离,达到S波高反,P波高透射;下部分是m×n的多孔阵列光子晶体阵列结构,可以实现窄带上的P波高反;利用多层膜系结构,在特定角度下实现可见光谱范围内的S波、P波分离,达到在该谱段S波高反,P波高透;利用多孔阵列光子晶体阵列结构,实现窄带的P波高反,实现特定谱段在偏振光谱下的信号突出,以及信号伪装。
搜索关键词: 基于 多层 光子 晶体 偏振 光谱 伪装 结构
【主权项】:
1.基于多层膜与光子晶体的偏振光谱伪装结构,其特征是,该结构分为两部分,上部分从上到下依次由TiO2层(1)、SiO2层(2)和TiO2层(3)三层膜构成,膜层厚度分别为d1、d2和d3,该结构在特定角度下实现偏振分光特性,并利用布儒斯特角θb将S波、P波分离,达到S波高反,P波高透射;下部分是m×n的多孔阵列光子晶体阵列结构(4),可以实现窄带上的P波高反;所述m×n的多孔阵列光子晶体阵列结构(4)由SiO2制成;S波、P波分离,即S波反射率大于0.8,P波反射率小于0.2时,膜层厚度d1、d2和d3的取值范围:d1(nm)57~74d2(nm)1~15d3(nm)57~74
                                                                       。
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