[发明专利]一种单层二硫化钼和二氧化钛纳米异质结的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710984971.8 申请日: 2017-10-20
公开(公告)号: CN107803209A 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 刘玉峰;郑新峰;房永征;侯京山;张娜;赵国营;张若愚;李倩倩 申请(专利权)人: 上海应用技术大学
主分类号: B01J27/051 分类号: B01J27/051;B82Y30/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种单层MoS2/TiO2纳米异质结的制备方法,将Si/SiO2基底先超声清洗,然后吹干;将装有三氧化钼的石墨舟放置在化学气相沉积装置的高温区加热,Si/SiO2基底放置在石墨舟上,抽真空;在封闭的石英管中通入保护气体后排空,加热管式炉,升温至700‑800℃,保温5‑20分钟,关闭加热,冷却至室温,获得片状单层MoS2;将钛酸四丁酯溶于无水乙醇中,再加入乙酰丙酮,在室温下搅拌得二氧化钛溶胶;将片状单层MoS2依次浸入二氧化钛溶胶、无水乙醇和去离子水中,然后用无水乙醇冲洗,除去表面粘附的水,然后置于500~550℃的马弗炉中退火1~2h,即得到单层MoS2/TiO2纳米异质结结构。
搜索关键词: 一种 单层 二硫化钼 氧化 纳米 异质结 制备 方法
【主权项】:
一种单层二硫化钼和二氧化钛纳米异质结的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)将Si/SiO2基底依次在去离子水、丙酮和乙醇中分别超声清洗20~50分钟,并吹干基底表面;将装有三氧化钼的石墨舟放置在化学气相沉积装置的高温区加热,将Si/SiO2基底放置在装有三氧化钼的石墨舟上方,用真空泵将化学气相沉积装置的真空度调节在5mTorr以下;在化学气相沉积装置封闭的石英管中通入保护气体5‑10分钟进行排空,加热管式炉,升温至700‑800℃,保温5‑20分钟,关闭加热,冷却至室温,即可获得片状单层MoS2;2)将钛酸四丁酯溶于无水乙醇中,再加入乙酰丙酮,钛酸四丁酯、无水乙醇和乙酰丙酮的物料比为20mmol:30~50mL:20mmol,将混合液密封,在室温下磁力搅拌得二氧化钛溶胶;3)将片状单层MoS2从化学气相沉积装置中取出后依次浸入二氧化钛溶胶、无水乙醇和去离子水中各40~50 秒,然后用无水乙醇冲洗片状单层MoS2,除去表面粘附的水,以上过程定义为一个吸附循环反应,进行至少两次吸附循环反应后,将片状单层MoS2吹干,然后置于500~550℃的马弗炉中退火1~2h,即可得到单层MoS2/TiO2纳米异质结结构。
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