[发明专利]半导体结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710994380.9 申请日: 2017-10-23
公开(公告)号: CN109285834B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 林正平;施江林;施信益 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;章侃铱
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开提供一种半导体结构及其制造方法,该半导体结构包含一基板,该基板具有一存储器阵列区与一周边电路区;多个第一线图案位于该存储器阵列区中且沿着一第一方向延伸;多个第二线图案位于该存储器阵列区中的所述第一线图案上方;以及多个线性元件位于该周边电路区中。该多个第二线图案沿着一第二方向延伸,该第二方向不同于该第一方向。该多个线图案与该多个线性元件实质位于该基板中的相同阶层。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:一基板,具有一第一区与一第二区;多个第一线图案,位于该第一区中并且沿着一第一方向延伸;多个第二线图案,位于该第一区中的所述第一线图案上方,其中该多个第二线图案沿着一第二方向延伸,该第二方向不同于该第一方向;以及多个线性元件,位于该第二区中;其中该多个第二线图案与该多个线性元件实质位于该基板中的相同阶层。
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