[发明专利]多重图案化参数的测量有效
| 申请号： | 201710997426.2 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN107741207B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | A·V·舒杰葛洛夫;S·克里许南;K·皮特林茨;T·G·奇乌拉;N·沙皮恩;S·I·潘戴夫 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/27 | 分类号： | G01B11/27;G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及多重图案化参数的测量。本发明呈现用于评估多重图案化工艺的性能的方法和系统。测量经图案化结构且确定特征化由所述多重图案化工艺引起的几何误差的一或多个参数值。在一些实例中，测量单个图案化目标和多重图案化目标，所收集数据拟合到经组合测量模型，且基于所述拟合确定指示由所述多重图案化工艺引起的几何误差的结构参数的值。在一些其它实例中，收集并分析具有不同于零的衍射级的光以确定指示由多重图案化工艺引起的几何误差的结构参数的值。在一些实施例中，收集不同于零的单个衍射级。在一些实例中，设计度量目标以增强以不同于零的级衍射的光。 | ||
| 搜索关键词： | 多重 图案 参数 测量 | ||
【主权项】：
一种系统，其包括：照明源，其经配置以照明半导体晶片的表面上的测量位点，其中所述测量位点包含具有由多重图案化工艺产生的标称光栅间距的度量目标；检测器，其经配置以检测以不同于零衍射级的衍射级从所被照明的测量位点衍射的光量；以及计算系统，其经配置以：基于检测到的光的量确定指示由所述多重图案化工艺引入的几何误差的至少一个结构参数值；以及将所述至少一个结构参数值存储在存储器中。
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