[发明专利]叠对偏移量测量补偿方法、装置及存储介质有效
| 申请号： | 201711003144.2 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN109696804B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 由元;武晨燕 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供至少提供一种叠对测量方法，包括：获得曝光单元的第一参数和第二参数；基于第一参数计算曝光单元的第一叠对偏移量；基于第二参数测量曝光单元的第二叠对偏移量；获得第一叠对偏移量和第二叠对偏移量的相关系数；以及，计算曝光单元的第三叠对偏移量，第三叠对偏移量为第一叠对偏移量乘以相关系数。本发明实施例的叠对测量补偿方法可以直接应用于曝光机上实现CPE测量，测量时间短，因此可以增加CPE测量频率，提高叠对精度，缩短产品生产周期，提高成品率，降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 偏移 测量 补偿 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种叠对偏移量的测量补偿方法，其特征在于，包括：获得曝光单元的第一参数和第二参数，其中，所述第一参数包括所述曝光单元的Z轴值以及所述第二参数，所述第二参数包括所述曝光单元的X轴值和/或Y轴值；计算所述曝光单元的第一叠对偏移量，所述第一叠对偏移量的计算基于所述第一参数；测量所述曝光单元的第二叠对偏移量，所述第二叠对偏移量的测量包括基于所述第二参数的再测量；获得所述第一叠对偏移量和所述第二叠对偏移量的相关系数；以及，计算所述曝光单元的第三叠对偏移量，所述第三叠对偏移量为所述第一叠对偏移量乘以所述相关系数。
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