[发明专利]一种正装结构的LED芯片及其制作方法在审
申请号: | 201711006284.5 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN107731979A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 陈明辉;吴质朴;何畏;陈强 | 申请(专利权)人: | 江门市奥伦德光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/20;H01L33/12;H01L33/06;H01L33/00 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
地址: | 529000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种正装结构的LED芯片及其制作方法,所述症状结构的LED芯片包括衬底,所述衬底上表面设置有外延层,所述外延层包括由下至上依次设置的缓冲层、N型GaN层、多量子阱层和P型GaN层,所述P型GaN上设置有ITO导电层,在ITO导电层上设置有导电金属作为P电极;所述外延层通过刻蚀P型GaN层到达N型GaN层形成低台阶,所述低台阶上保留有一凸起的GaN小岛,GaN小岛上设置有N电极。本发明通过保留低台阶上的一个凸起的GaN小岛,在不增加电极耗料的情况下,避免了N电极打线接触高台阶PN结导致漏电的问题;同时小岛高度跟台阶一样高,再在此基础上做电极,使得P电极和N电极可以采用同一技术制备,提高了焊线效率和良率,芯片可靠性大幅度提升。 | ||
搜索关键词: | 一种 结构 led 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种正装结构的LED芯片,其特征在于:包括衬底,所述衬底上表面设置有外延层,所述外延层包括由下至上依次设置的缓冲层、N型GaN层、多量子阱层和P型GaN层,所述P型GaN上设置有ITO导电层,在ITO导电层上设置有导电金属作为P电极;所述外延层通过刻蚀P型GaN层到达N型GaN层形成低台阶,所述低台阶上保留有一凸起的GaN小岛,GaN小岛上设置有N电极。
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