[发明专利]一种薄膜晶体管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201711006470.9 申请日: 2017-10-25
公开(公告)号: CN107910365A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 张俊;董波;戴超;曹琨;邢志民 申请(专利权)人: 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司;南京中电熊猫平板显示科技有限公司;南京华东电子信息科技股份有限公司
主分类号: H01L29/417 分类号: H01L29/417;H01L29/786;H01L21/336;G02F1/1368
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210033 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管及其制造方法,包括栅极、半导体层、源极和漏极、以及,沟道区,位于源极和漏极之间、绝缘层,位于所述源极和漏极上方;其中,所述源极和漏极为多层结构,至少包括位于底部的下钛层、位于顶部的上钛层、以及位于所述下钛层与上钛层之间的铜层,所述下钛层与所述半导体层接触,所述铜层与绝缘层和半导体层均不接触。本发明的源极和漏极采用钛‑铜‑钛的金属结构,先沉积底层钛和铜,然后对铜层进行图案化,并进行适当过刻,保证顶层钛覆盖中间铜层,从而保护铜不被氯气的腐蚀。此外,形成源极和漏极时,不需额外开一道光罩,优化了生产工艺,节约了制造成本。
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包括:栅极(2);半导体层(4);源极和漏极(5);以及,沟道区(7),位于所述源极和漏极(5)之间;绝缘层(6),位于所述源极和漏极(5)上方;其中,所述源极和漏极(5)为多层结构,所述源极和漏极(5)均至少包括位于底部的下钛层(51)、位于顶部的上钛层(53)、以及位于所述下钛层(51)与上钛层(53)之间的铜层(52),所述下钛层(51)与所述半导体层(4)接触,所述铜层(52)与所述半导体层(4)和绝缘层(6)均不接触。
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