[发明专利]提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置在审
| 申请号： | 201711007075.2 | 申请日： | 2017-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN108203808A | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 张众;黄秋实;沈正祥 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置，所述方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜，通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性，同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方向的均匀性。与现有技术相比，本发明能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 反射镜 生产效率 薄膜均匀性 膜厚均匀性 上薄膜 磁控溅射靶 厚度均匀性 方向设置 速度调节 均匀性 掩膜版 镀膜 溅射 膜厚 保证 | ||
【主权项】：
1.一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法，其特征在于，该方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜，通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性，同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方向的均匀性。
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