[发明专利]液浸构件及曝光装置有效
| 申请号： | 201711011972.0 | 申请日： | 2013-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN107728434B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的液浸构件(5)，是在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)，使得从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满。液浸构件具备配置在光学构件周围至少一部分的第1构件(21)与能在第1构件的至少一部分的外侧移动、具有回收液浸空间的液体的至少一部分的回收口(24)的第2构件(22)。 | ||
| 搜索关键词： | 构件 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1面；第2构件，能与该第1构件隔着间隙在该第1构件的下方移动，具有与该第1面对向的第2面及回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口；以及抑制部，抑制该液体浸入该第1面与该第2面间的间隙以使该第1面与该第2面之间不存在液体。
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