[发明专利]一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201711015143.X 申请日: 2017-10-25
公开(公告)号: CN107861302B 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 金慧俊 申请(专利权)人: 上海中航光电子有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1345
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 201108 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置,通过对第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管的设置,使得在第一有源层向衬底基板具有第一正投影,第二有源层向衬底基板具有第二正投影时,第二正投影位于第一正投影所在的预设区域之外,使得在对部分半导体层进行晶化处理以形成第一薄膜晶体管的第一有源层的过程中,不会对第二薄膜晶体管的第二有源层的非晶状态产生影响,从而可以有效避免在局部晶化过程中因彗差的作用对第二有源层的非晶状态产生影响,不仅提高了局部晶化的准确率和效率,还有效提高了移位寄存器单元的工作性能,从而提高了显示面板的显示效果。
搜索关键词: 一种 阵列 制作方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;位于所述衬底基板上的多个级联的移位寄存器单元,每个所述移位寄存器单元包括至少一个第一薄膜晶体管和至少一个第二薄膜晶体管;所述第一薄膜晶体管包括第一有源层,所述第一有源层的材料包括多晶硅;所述第二薄膜晶体管包括第二有源层,所述第二有源层的材料包括非晶硅;所述第一有源层向所述衬底基板具有第一正投影,所述第二有源层向所述衬底基板具有第二正投影,所述第二正投影位于所述第一正投影所在的预设区域之外。
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