[发明专利]基于WO3有效

专利信息
申请号: 201711017958.1 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN107919396B 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 张金风;刘俊;任泽阳;陈万娇;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/51;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李园园
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于WO3/Al2O3双层栅介质的零栅源间距金刚石场效应晶体管及制作方法,主要解决现有金刚石场效应晶体管导通电阻大,输出电流和跨导低的问题。其包括金刚石衬底(1)、氢终端表面(2)、WO3第一栅介质层(3)、Al2O3第二栅介质层(4)、源电极(5)、漏电极(6)和栅电极(7),其中源、漏极位于氢终端表面上的两侧,第一栅介质层位于源、漏极之间的氢终端表面上并覆盖部分源、漏极,第二栅介质层覆盖在第一栅介质层之上,其上方的栅电极下半部分镶嵌在源、漏极之间,上半部分隔着2层栅介质覆盖在源、漏极之上,形成T型栅结构。本发明导通电阻小,跨导和输出电流高,可用于功率器件和电力电子器件。
搜索关键词: 基于 wo base sub
【主权项】:
一种基于WO3/Al2O3双层栅介质的零栅源间距金刚石场效应晶体管,包括金刚石衬底(1)、氢终端表面(2)、第一栅介质层(3)、第二栅介质层(4)、源电极(5)、漏电极(6)和栅电极(7),源、漏电极位于氢终端表面上的两侧,第一栅介质层(3)位于源、漏电极之间的氢终端表面上并覆盖源、漏电极的部分表面,第二栅介质层(4)覆盖在第一栅介质层(3)的上方,其特征在于:栅电极(7)位于第二栅介质层(4)的上方,且下半部分镶嵌在源、漏电极之间,上半部分隔着2层栅介质分别覆盖在源、漏电极之上,使得栅、源和栅、漏之间的横向间距都为零,形成T型栅结构;第一栅介质层(3)采用具有高功函数的过渡金属氧化物WO3材料,第二栅介质层(4)采用Al2O3材料。
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