[发明专利]阵列基板的制作方法

摘要

本发明提供了一种阵列基板的制作方法。所述阵列基板的制作方法包括步骤提供基板；形成设置在基板的一侧的薄膜晶体管；形成覆盖薄膜晶体管的平坦层；形成覆盖平坦层的光阻层；提供光罩，光罩上设置有对应于平坦层周边区域的若干条凹槽图案，凹槽图案包括条状结构和多个凸起结构，条状结构用于在平坦层上形成凹槽，条状结构包括相对设置的第一侧面和第二侧面，凸起结构用于优化凹槽的坡角，凸起结构包括相对设置的第一平面和第二平面，第一平面贴合第一侧面和第二侧面设置，凸起结构的宽度自第一平面向第二平面逐渐减小；利用光罩对平坦层进行曝光，以在平坦层的周边区域形成坡角在预设角度范围的凹槽。本发明有助于减小平坦层上凹槽的坡角。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板的制作方法包括步骤：提供基板；形成设置在所述基板的一侧的薄膜晶体管；形成覆盖所述薄膜晶体管的平坦层；形成覆盖所述平坦层的光阻层；提供光罩，所述光罩上设置有对应于所述平坦层周边区域的若干条凹槽图案，所述凹槽图案包括条状结构和多个凸起结构，所述条状结构用于在所述平坦层上形成凹槽，所述条状结构包括相对设置的第一侧面和第二侧面，所述凸起结构用于优化所述凹槽的坡角，所述凸起结构包括相对设置的第一平面和第二平面，所述第一平面贴合所述第一侧面和所述第二侧面设置，所述凸起结构的宽度自所述第一平面向所述第二平面逐渐减小；利用所述光罩对所述平坦层进行曝光，以在所述平坦层的周边区域形成坡角在预设角度范围的凹槽。