[发明专利]针对频率响应测量而控制注入的方法及设备有效
| 申请号： | 201711020851.2 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN108021025B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | M·巴德瓦杰 | 申请（专利权）人： | 德州仪器公司 |
| 主分类号： | G05B13/04 | 分类号： | G05B13/04 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林斯凯 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及用以针对频率响应测量而控制注入的方法及设备。一种实例性方法包含计算电路的增益(125、330)。基于所测量的所述电路对在第一频率下所注入的第一扰动的响应而计算所述增益(150、320)。识别第二扰动将被注入到所述电路中的第二频率(135、355)。计算所述第二扰动将在所述第二频率下被注入到所述电路中的振幅(140、360)。基于测量噪声(140、410)及所述电路在所述第一频率下的所述增益(140、430、440)而计算所述振幅。使用所述第二频率及所述振幅来将所述第二扰动注入到所述电路中(150、320)。 | ||
| 搜索关键词： | 针对 频率响应 测量 控制 注入 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种包括指令的有形机器可读存储磁盘或存储装置，所述指令在被执行时致使机器至少：计算电路的增益，基于所测量的所述电路对在第一频率下所注入的第一扰动的响应而计算所述增益；识别第二扰动将被注入到所述电路中的第二频率，所述第二频率不同于所述第一频率；计算所述第二扰动在所述第二频率下被注入到所述电路中的振幅，基于测量噪声值及所述电路在所述第一频率下的所述增益而计算所述振幅；及使用所述第二频率及所述振幅来将所述第二扰动注入到所述电路中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德州仪器公司，未经德州仪器公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711020851.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光场显示装置及其制造方法
- 下一篇：用于激光加工设备的水冷系统
