[发明专利]湿法剥离设备及其剥离方法在审
| 申请号： | 201711025369.8 | 申请日： | 2017-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN107817657A | 公开（公告）日： | 2018-03-20 |
| 发明（设计）人： | 马迪 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种湿法剥离设备，用于湿法去除基板上的光刻胶；该湿法剥离设备包括依次连通设置的入口单元、剥离单元、置换单元、水洗单元、干燥单元和出口单元；其中，置换单元提供置换液冲洗所述基板，以置换去除基板经剥离单元后残留的剥离液。本发明还提供了基于上述湿法剥离设备的剥离方法。本发明通过在剥离单元和水洗单元之间设置置换单元，并通过置换液去除残留在基板上的剥离液，从而对基板进行水洗时，即可免于剥离液中一般存在的乙醇胺遇水生成碱性物质，并继而腐蚀基板上其他铝质元件的问题，从而将该湿法剥离设备及其剥离方法应用于液晶面板制作过程中，能够避免影响产品的电性，也不会由此形成mura的不良现象，将大幅提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 湿法 剥离 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种湿法剥离设备，用于湿法去除基板上的光刻胶；其特征在于，所述湿法剥离设备包括依次连通设置的入口单元、剥离单元、置换单元、水洗单元、干燥单元和出口单元；其中，所述置换单元提供置换液冲洗所述基板，以置换去除所述基板经所述剥离单元后残留的剥离液。
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