[发明专利]一种用于电子元器件的浸润工艺在审

专利信息
申请号: 201711026938.0 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107643593A 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 蒋祥春 申请(专利权)人: 蒋祥春
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 641200 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于电子元器件的浸润工艺,包括以下步骤,步骤一冷冻,提供液态油墨并将所述油墨冷冻成结晶状态,将结晶状态的所述油墨研磨成粉末状;步骤二涂布,提供第一流体,将第一流体装与步骤一种粉末状油墨混合,沿着基板表面涂布置下方的基板;所述基板包括像素墙,所述像素墙包括多个像素格;步骤三填充,将步骤一中的粉末状油墨,填充至步骤二所述像素格内;步骤四吸收,提供温度为80‑120℃的电解质溶液,将经填充处理后的所述基板浸入所述电解质溶液中1‑2小时;步骤五烘干,取出步骤四中的基板,烘干处理。所述步骤二中的第一流体包括溶剂,所述溶剂为C 6~C 16的烷类、环烷类、芳香族、脂肪族或硅油中任意一种。
搜索关键词: 一种 用于 电子元器件 浸润 工艺
【主权项】:
一种用于电子元器件的浸润工艺,其特征在于:包括以下步骤,步骤一:冷冻,提供液态油墨并将所述油墨冷冻成结晶状态,将结晶状态的所述油墨研磨成粉末状;步骤二:涂布,提供第一流体,将第一流体装与步骤一种粉末状油墨混合,沿着基板表面涂布置下方的基板;所述基板包括像素墙,所述像素墙包括多个像素格;步骤三:填充,将步骤一中的粉末状油墨,填充至步骤二所述像素格内;步骤四:吸收,提供温度为80‑120℃的电解质溶液,将经填充处理后的所述基板浸入所述电解质溶液中1‑2小时;步骤五:烘干,取出步骤四中的基板,烘干处理。
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