[发明专利]光学涂覆方法、设备和产品有效
| 申请号： | 201711027219.0 | 申请日： | 2012-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN107777894B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | C·M·李;卢小锋;M·X·欧阳;张军红 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C03C17/42;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学涂覆方法、设备和产品,特别是具有真空沉积的光学涂层和在该光学涂层上真空沉积的易清洁涂层的玻璃制品，所述玻璃制品在所述玻璃制品的整个光学涂覆的表面上都是不含阴影的。本发明玻璃制品具有改善的耐刮擦耐久性和光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 方法 设备 产品 | ||
【主权项】：
一种玻璃制品，所述玻璃制品包括真空沉积的光学涂层和在所述光学涂层顶部真空沉积的易清洁涂层，所述玻璃制品在所述玻璃制品的整个光学涂覆的表面上都是不含阴影的，其中：所述光学涂层包括多个周期，所述周期由具有折射率n大于或等于1.7且小于或等于3.0的高折射率材料H层、以及具有折射率n大于或等于1.3且小于或等于1.6的低折射率材料L层组成，所述高折射率材料H层是各周期的第一层且所述低折射率材料L层是各周期的第二层；以及SiO2封盖层，所述SiO2封盖层被施涂至所述多个周期顶部，且厚度范围为大于或等于20纳米且小于或等于200纳米。
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