[发明专利]一种分布式磁控溅射靶

摘要

本发明公开了一种分布式磁控溅射靶，包括自上而下设置的密封罩、真空安装环、绝缘环和阴极板，还包括靶材组件、固定组件和密封圈；在垂直于阴极板的方向上设有若干个安装靶材组件的磁芯孔，所述的磁芯孔的分布与所镀膜的三维产品相对应；所述的靶材组件包括电磁线圈、磁芯、和球形靶材；所述的球形靶材安装在阴极板上与密封腔相对的一侧，直接与阴极板接触；所述的磁芯贯穿磁芯孔，所述的磁芯一端为半球形并置于球形靶材内，另一端位于密封腔中，套有电磁线圈；所述的磁芯通过固定组件与阴极板相连。本发明可实现立体产品的各个方向的镀膜的均匀性。

主权项

一种分布式磁控溅射靶，其特征在于：包括自上而下设置的密封罩（5）、真空安装环（4）、绝缘环（7）和阴极板（6），还包括靶材组件、固定组件和密封圈（9）；所述的密封罩（5）通过固定组件安装在真空安装环（4）上，两者之间的空隙形成密封腔；所述的阴极板（6），真空安装环（4）和夹在中间的绝缘环（7）通过固定组件紧密的结合在一起，与板面的垂直方向上设有若干个安装靶材组件的磁芯孔（13），所述的磁芯孔（13）的分布与所镀膜的三维产品相对应；所述的靶材组件包括电磁线圈（3）、磁芯（2）、和球形靶材（1）；所述的球形靶材（1）安装在阴极板（6）上与密封腔相对的一侧，直接与阴极板（6）接触；所述的磁芯（2）贯穿磁芯孔（13），所述的磁芯（2）一端为半球形并置于球形靶材（1）内，另一端位于密封腔中，其侧面套有电磁线圈（3）；所述的磁芯（2）通过固定组件与阴极板（6）相连。