[发明专利]一种导模法大尺寸氧化镓单晶生长装置的热场结构在审
申请号: | 201711034651.2 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN107604432A | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 练小正;张胜男;程红娟;徐永宽;齐海涛;张颖武 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
主分类号: | C30B15/34 | 分类号: | C30B15/34;C30B29/16 |
代理公司: | 天津中环专利商标代理有限公司12105 | 代理人: | 胡京生 |
地址: | 300220*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种导模法大尺寸氧化镓单晶生长装置的热场结构,由上保温结构、铱反射屏、铱坩埚盖、铱发热体、铱坩埚、铱模具、感应加热线圈、下保温结构、热电偶、氧化锆垫片组成,铱坩埚内中心处嵌有铱模具,铱模具横截面限定了生长的晶体的形状,在铱坩埚外围增加铱发热体,可以减小坩埚的负荷,获得较小的径向温度梯度,从而避免晶体的开裂,在发热体上方放置中心开有长方形孔的铱反射屏,可以减小炉体轴向温度梯度,同时保证模具附近温度分布较为均匀,有利于获得高质量的β‑Ga2O3单晶,整套热场系统的材料选择能够保证在高温、氧化气氛下进行大尺寸β‑Ga2O3单晶生长,技术水平处于国内领先地位。 | ||
搜索关键词: | 一种 导模法大 尺寸 氧化 镓单晶 生长 装置 结构 | ||
【主权项】:
一种导模法大尺寸氧化镓单晶生长装置的热场结构,由上保温结构(2)、铱反射屏(4)、铱坩埚盖(5)、铱发热体(6)、铱坩埚(7)、铱模具(8)、感应加热线圈(10)、下保温结构(11)、热电偶(12)、氧化锆垫片(13)组成,其特征在于:所述的铱坩埚(7)为圆形坩埚,所述的铱坩埚盖(5)有与铱模具(8)截面尺寸相同的开孔,所述的铱模具(8)上表面形状为矩形,其上表面形状限定了晶体生长的形状,所述的铱反射屏(4)为中心开长方形孔的圆片形,外径与铱发热体(6)外径相同,所述的铱发热体(6)为圆筒状,所述的上保温结构(2)与下保温结构(11)均为桶状体,铱坩埚(7)内中心处嵌有铱模具(8),并通过氧化锆垫片(13)同心置于下保温结构(11)的内端面上,铱坩埚盖(5)盖于铱坩埚(7)上,铱模具(8)伸入坩埚盖(5)的开孔内,铱发热体(6)同心套在铱坩埚(7)外面,间距2‑5mm 并置于下保温结构(11)的内端面上,铱发热体(6)上端面与下保温结构(11)上端面等高,反射屏(4)置于发热体(6)上端面,上保温结构(2)顶端中心有一通孔为籽晶杆入口(1)、侧面有一斜通孔为视孔(3),上保温结构(2)与下保温结构(11)对接在一起,热电偶(12)从下保温结构(11)的底端插入下保温结构(11)的腔内,感应加热线圈(10)环绕于下保温结构(11)外侧。
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