[发明专利]一种促进大豆幼苗生长的种植方法在审
申请号: | 201711037455.0 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN107873456A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 胡本号 | 申请(专利权)人: | 蚌埠农兴现代农业专业合作社 |
主分类号: | A01G22/40 | 分类号: | A01G22/40;A01G7/02;A01G7/06;C05G1/00 |
代理公司: | 合肥广源知识产权代理事务所(普通合伙)34129 | 代理人: | 李显锋 |
地址: | 233000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种促进大豆幼苗生长的种植方法,涉及农业种植技术领域,在大豆植株生长至15‑20cm时,每隔3‑5天采用质量分数为镁盐与铁盐混合水溶液对大豆植株进行叶面喷洒,喷洒时间为早上7点,每天上午进行1次50‑80min的遮光处理,同时调节温度至26‑28℃,调节大豆植株生长环境内的二氧化碳浓度至0.0351‑0.0359%;每天下午进行1次40‑60min的遮光处理,同时调节温度至28‑30℃,调节环境内的二氧化碳浓度至0.0452‑0.0463%;能够大幅度的提高大豆植株的生长速度,缩短大豆的收获周期,使得大豆能够提高上市,提高经济效益。 | ||
搜索关键词: | 一种 促进 大豆 幼苗 生长 种植 方法 | ||
【主权项】:
一种促进大豆幼苗生长的种植方法,其特征在于,在大豆植株生长至15‑20cm时,每隔3‑5天采用质量分数为镁盐与铁盐混合水溶液对大豆植株进行叶面喷洒,喷洒时间为早上7点,每天上午进行1次50‑80min的遮光处理,同时调节温度至26‑28℃,调节大豆植株生长环境内的二氧化碳浓度至0.0351‑0.0359%;每天下午进行1次40‑60min的遮光处理,同时调节温度至28‑30℃,调节环境内的二氧化碳浓度至0.0452‑0.0463%,所述遮光处理为采用遮光膜对大豆植株进行遮光处理,进行遮光处理后大豆植株的受到的光照强度为正常光照强度的30‑35%。
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