[发明专利]超低缺陷部件处理在审
| 申请号： | 201711079849.2 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN108130520A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 伊恩·斯科特·拉奇福德;玛丽·安妮·普莱诺 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C23C16/02 | 分类号： | C23C16/02;C23C14/02 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及超低缺陷部件处理。一种用于去除和防止衬底处理室的组件的表面上的缺陷的方法包括：将所述组件装载到真空室中；并且，在所述组件被装载在所述真空室内的情况下，在第一预定时间段期间在烘烤温度下烘烤所述组件以从所述组件的表面去除水和缺陷，以及在至少一个第二预定时间段期间清扫所述真空室内的所述组件以从所述真空室中除去所述缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 预定时间段 部件处理 低缺陷 真空室 烘烤 室内 衬底处理室 表面去除 组件装载 去除 清扫 装载 | ||
【主权项】：
一种用于去除和防止衬底处理室的组件的表面上的缺陷的方法，所述方法包括：将所述组件装载到真空室中；并且在所述组件被装载在所述真空室内的情况下，(i)在第一预定时间段期间在烘烤温度下烘烤所述组件以从所述组件的表面去除水和缺陷，以及(ii)在至少一个第二预定时间段期间清扫所述真空室内的所述组件以从所述真空室中除去所述缺陷。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
