[发明专利]可连续测温的双室真空炉在审

专利信息
申请号: 201711082984.2 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN107699683A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 杨野 申请(专利权)人: 大连爱信金属制品有限公司
主分类号: C21D11/00 分类号: C21D11/00;C21D1/62;C21D1/773;C21D9/00
代理公司: 大连格智知识产权代理有限公司21238 代理人: 林青
地址: 116031 辽宁省大*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种可连续测温的双室真空炉,其特征在于在加热室和冷却室的料盘支撑架体上分别固定安装插座,插座的插孔面朝上,插座的连接导线穿过炉体与炉外温度记录仪连接;料盘侧壁或底面上固定安装有热电偶插头,热电偶插头的导电柱朝下设置,料盘上热电偶插头的安装位置与料盘支撑架体上插座的安装位置相对应,料盘位于料盘支撑架体上,其热电偶插头的导电柱位于插座的插孔内。特点是解决了双室真空炉无法对工件加热及淬火过程的连续温度监测问题,从而实现了连续准确监测加热及淬火温度,保证热处理的效果。
搜索关键词: 连续 测温 真空炉
【主权项】:
一种可连续测温的双室真空炉,包括炉体、加热室、冷却室、中间门、转运车、热电偶、温度记录仪、料盘,其特征在于在加热室和冷却室的料盘支撑架体上分别固定安装插座,插座的插孔面朝上,插座的连接导线穿过炉体与炉外温度记录仪连接;料盘侧壁或底面上固定安装有热电偶插头,热电偶插头的导电柱朝下设置,料盘上热电偶插头的安装位置与料盘支撑架体上插座的安装位置相对应,料盘位于料盘支撑架体上,其热电偶插头的导电柱位于插座的插孔内。
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