[发明专利]减压处理装置

摘要

提供一种减压处理装置，防止在对腔室内进行减压时产生结露，并且缩短减压时间。在减压状态下对晶片(W)进行处理的减压处理装置(1)构成为具有：腔室(10)，其具有对室内进行减压的减压单元(50)；开闭门(17)，其将供晶片相对于减压室搬入和搬出的搬入搬出口(12)打开或关闭；以及惰性气体提供源(37)，其向腔室内提供惰性气体，在开闭门被打开的状态下持续提供惰性气体而将腔室内维持为干燥状态。

主权项

1.一种减压处理装置，其在减压状态下对晶片进行处理，其中，该减压处理装置具有：保持工作台，其对晶片进行保持；减压室，其配设有该保持工作台；开闭门，其将供晶片相对于该减压室搬入和搬出的搬入搬出口打开或关闭；以及惰性气体提供单元，其向该减压室提供惰性气体，通过该惰性气体提供单元向该减压室内提供惰性气体，使该减压室与外部空气相比成为正压，打开该开闭门，并通过该惰性气体提供单元向该减压室内持续提供惰性气体直到该开闭门关闭，从而将该减压室内维持为干燥状态。