[发明专利]波前量测系统有效
| 申请号： | 201711088595.0 | 申请日： | 2017-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN109506897B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 梁肇文;梁金章 | 申请（专利权）人： | 东大光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J9/00 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军;谢琼慧 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种波前量测系统，包含发光元件、拍摄单元及处理单元。所述发光元件产生用于通过待测光学元件的光束。所述拍摄单元用于拍摄所述光束通过所述待测光学元件及阵列透镜所产生的多个强度不均匀的光线。所述处理单元控制所述发光元件及所述拍摄单元，以调整出多个相关于曝光量的拍摄条件。对于每一个拍摄条件，所述处理单元控制所述拍摄单元拍摄所述光线，以产生多张分别包括多个光点的图像，每一个光点对应包含所述光点所包括的多个像素坐标及其对应的像素值的光点信息，所述处理单元根据所述图像的至少二者的光点信息产生相关于所述光点的波前信息，以达到减少所述量测系统的成本及减少光学元件质量对波前量测造成的误差的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 波前量测 系统 | ||
【主权项】：
1.一种波前量测系统，适用于量测待测光学元件或光学系统，其特征在于：包含发光元件，产生均匀光束，所述均匀光束用于通过或反射所述待测光学元件或所述光学系统，所述均匀光束通过或反射所述待测光学元件或所述光学系统后产生不均匀光束；拍摄单元，包括阵列透镜及拍摄模块，所述拍摄模块用于拍摄所述不均匀光束通过所述阵列透镜所产生的多个强度不均匀的光线；及处理单元，电连接所述发光元件及所述拍摄单元，所述处理单元控制所述发光元件及所述拍摄单元，以调整出多个相关于曝光量的拍摄条件；其中，对于所述拍摄条件的每一者，所述处理单元控制所述拍摄单元的所述拍摄模块拍摄所述光线，以产生多张分别包括多个光点的图像，每一个光点对应包含所述光点所包括的多个像素坐标及其对应的像素值的光点信息，所述处理单元根据所述图像的至少二者的光点信息产生相关于所述光点的波前信息。
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