[发明专利]超结器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201711090248.1 申请日: 2017-11-08
公开(公告)号: CN109755315B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 肖胜安 申请(专利权)人: 深圳尚阳通科技有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 518057 广东省深圳市南山区高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种超结器件,包括:N型外延层,所述N型外延层进行干法刻蚀形成多个沟槽;各沟槽为顶部宽底部窄的侧面倾斜结构,在沟槽的底部形成有第一P型离子注入区,在沟槽中填充有第一P型外延层,由第一P型离子注入区和第一P型外延层叠加形成P型柱,由各P型柱之间的N型外延层组成N型柱,由多个交替排列的N型柱和P型柱组成的超结结构。本发明还公开了一种超结器件的制造方法。本发明第一P型离子注入区能增加P型柱的底部区域的P型杂质总量,从而能补偿侧面倾斜的沟槽带来的P和N型柱之间的电荷失配,能改善具有倾斜沟槽的超结结构的P型柱和N型柱之间的电荷平衡,提高器件的纵向耐压能力,提高器件的源漏击穿电压。
搜索关键词: 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种超结器件,超结器件的中间区域为电流流动区,终端区环绕于所述电流流动区的外周,过渡区位于所述电流流动区和所述终端区之间;其特征在于,包括:N型外延层,在所述N型外延层形成有多个沟槽;各所述沟槽为顶部宽底部窄的侧面倾斜结构,在所述沟槽的底部形成有第一P型离子注入区,在所述沟槽中填充有第一P型外延层,由所述第一P型离子注入区和所述第一P型外延层叠加形成P型柱,由各所述P型柱之间的所述N型外延层组成N型柱,由多个交替排列的所述N型柱和所述P型柱组成的超结结构;所述第一P型离子注入区用于增加所述P型柱的底部区域的P型杂质总量,补偿侧面倾斜的所述沟槽带来的所述P型柱和所述N型柱之间的电荷失配从而提高所述P型柱和所述N型柱之间的电荷平衡,提高所述超结结构的纵向耐压能力。
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