[发明专利]透反射式集成装置及光谱仪系统有效

专利信息
申请号: 201711107797.5 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN107941740B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 彭世昌;丁庆;冯军正 申请(专利权)人: 深圳市太赫兹科技创新研究院有限公司;深圳市太赫兹科技创新研究院
主分类号: G01N21/3586 分类号: G01N21/3586
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 刘雯
地址: 518102 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种透反射式集成装置,包括发射模组、接收模组、发射支撑架、接收支撑架、承载台和基底,所述发射模组设置在发射支撑架上,所述接收模组设置在接收支撑架上,所述承载台设置在基底上,用于盛放待测样品,所述发射支撑架和所述接收支撑架可相对移动的设置在基底上,调节发射支撑架和接收支撑架的位置使发射模组所辐射出的太赫兹波聚焦到样品上,经样品反射或透射后汇聚到接收模组,以实现对样品的透射和反射测量。该透反射式集成装置将透射模式和反射模式集成一体使得系统结构更加紧凑、节省了一定的成本。
搜索关键词: 反射 集成 装置 光谱仪 系统
【主权项】:
1.一种透反射式集成装置,其特征在于,包括:发射模组,包括第一对离轴抛物面镜,用于通过所述第一对离轴抛物面镜发射出太赫兹波;接收模组,包括第二对离轴抛物面镜,用于通过所述第二对离轴抛物面镜接收经样品反射或者透射后的太赫兹波;发射支撑架,用于支撑所述发射模组;接收支撑架,用于支撑所述接收模组;承载台,用于盛放待测样品;基底,所述基底具有中心轴,所述发射支撑架和所述接收支撑架可相对移动地设置在基底上,所述承载台具有放置样品的参照点,所述参照点位于所述基底的中心轴上;所述第一对离轴抛物面镜包括第一离轴抛物面镜和第二离轴抛物面镜,所述发射支撑架包括第一支撑架和第二支撑架,所述第一离轴抛物面镜设置在第一支撑架上,所述第二离轴抛物面镜设置在第二支撑架上,所述第一离轴抛物面镜的抛物面开口与所述第二离轴抛物面镜的抛物面开口在竖直方向上相对设置;所述发射模组还包括光电导天线辐射端,所述光电导天线辐射端设置在所述第一支撑架上并处于所述第一离轴抛物面镜的焦点处;所述第二对离轴抛物面镜包括第三离轴抛物面镜和第四离轴抛物面镜,所述接收支撑架包括第三支撑架和第四支撑架,所述第三离轴抛物面镜设置在所述第三支撑架上,所述接收模组还包括光电导天线探测端,所述光电导天线探测端和第四离轴抛物面镜相对设置在第四支撑架上,所述第三离轴抛物面镜的抛物面开口与所述第四离轴抛物面镜的抛物面开口在竖直方向上相对设置;所述第二离轴抛物面镜的焦点与所述第三离轴抛物面镜的焦点重合并位于所述基底的中心轴上;所述第一支撑架和第二支撑架之间设置第一滑动部件,使得第一支撑架在第一滑动部件的带动下可以相对第二支撑架上下滑动,所述第二离轴抛物面镜与所述第二支撑架之间设置有第二滑动部件,所述第二离轴抛物面镜通过第二滑动部件设置在第二支撑架上,使得第二离轴抛物面镜在第二滑动部件的带动下在第二支撑架上滑动,所述光电导天线辐射端与所述第一支撑架之间设置有第三滑动部件,所述光电导天线辐射端通过第三滑动部件设置在第一支撑架上,使得光电导天线辐射端在滑动部件的带动下在第一支撑架上滑动以使其处于第一离轴抛物面镜的焦点处;及/或,所述第三支撑架和第四支撑架之间设置第四滑动部件,使得第四支撑架在滑动部件的带动下可以相对第三支撑架上下滑动;所述第三离轴抛物面镜与所述第三支撑架之间设置有第五滑动部件,所述第三离轴抛物面镜通过第五滑动部件设置在第三支撑架上,使得第三离轴抛物面镜在滑动部件的带动下相对第三支撑架上下滑动;所述光电导天线探测端与所述第四支撑架之间设置有第六滑动部件,所述光电导天线探测端通过第六滑动部件设置在第四支撑架上,使得光电导天线探测端在第六滑动部件的带动下可以相对第四支撑架水平滑动,以调节光电导天线探测端的位置使其位于第四离轴抛物面镜的焦点处。
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