[发明专利]基片的预对准方法有效
申请号: | 201711122043.7 | 申请日: | 2017-11-14 |
公开(公告)号: | CN107908086B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 朱鹏飞;浦东林;朱鸣;邵仁锦;吕帅;张瑾;袁晓峰;陈林森 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人: | 唐静芳 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种基片的预对准方法,该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标,并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标,最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准,实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。 | ||
搜索关键词: | 对准 方法 | ||
【主权项】:
一种基片的预对准方法,其特征在于,包括以下步骤:将所述基片置于工件台上,以所述工件台为基准面建立坐标系,设定所述坐标系的x轴方向及y轴方向,使直写镜头与所述基片之间的距离处于成像焦距内;在所述基片上呈现特征图像和测距图像,获得至少五个边缘点的坐标,其中至少两个所述边缘点位于同一个所述边缘上的不同部位,其中四个所述边缘点分别取自不同的四个所述边缘上;根据位于同一所述边缘上的两个所述边缘点的坐标确定所述基片的倾斜角度;根据所述倾斜角度,将所述基片转正,获得转正后所述基片的中心坐标。
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