[发明专利]二极管模组在审

专利信息
申请号: 201711122199.5 申请日: 2013-04-12
公开(公告)号: CN107731976A 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 深圳迈辽技术转移中心有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/12;G02B6/42
代理公司: 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙)44419 代理人: 曹明兰
地址: 518000 广东省深圳市龙华新区大浪街道龙*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种二极管模组,包括半导体基底层、二极管外延层及光波导。该半导体基底层具有一表面,该表面包括依次相邻设置的外延层生长区、光波导固定区及光纤接入区,该光纤接入区开设有光纤收容沟槽,该光纤收容沟槽的延伸方向指向该光波导固定区。该二极管外延层形成于该外延层生长区,该二极管外延层包括沿远离该表面依次排列的半导体缓冲层和PN结,该PN结之间形成有多重量子井结构层。该光波导形成于该光波导固定区,该光波导其中一侧面与该多重量子井结构层一侧面相对。本发明还涉及该二极管模组的制作方法及光互连装置。
搜索关键词: 二极管 模组
【主权项】:
一种二极管模组,包括:半导体基底层,具有一表面,该表面包括依次相邻设置的外延层生长区、光波导固定区及光纤接入区,该光纤接入区开设有光纤收容沟槽,该光纤收容沟槽的延伸方向指向该光波导固定区;二极管外延层,形成于该外延层生长区,该二极管外延层包括沿远离该表面依次排列的半导体缓冲层和PN结,该PN结之间形成有多重量子井结构层;及光波导,形成于该光波导固定区,该光波导其中一侧面与该多重量子井结构层一侧面相对。
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