[发明专利]一种发光二极管芯片及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711131498.5 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN107994105B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 兰叶;顾小云;汪洋;王江波 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省金华市义*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域。芯片包括衬底、N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层、P型电极和N型电极,N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层依次层叠在衬底上,P型半导体层上设有延伸至N型半导体层的凹槽,N型电极设置在凹槽内的N型半导体层上,P型电极设置在P型半导体层上;P型电极包括焊点和电极线,电极线的一端与所述焊点连接,电极线的另一端沿远离焊点的方向延伸;电极线包括依次层叠的粘附层、反光层、复合层和打线层,反光层和打线层为Al膜,复合层包括依次层叠的第一过渡层、导电层和第二过渡层,导电层为Cu膜,第一过渡层和第二过渡层为TiW膜。本发明可解决电迁移。
搜索关键词: 一种 发光二极管 芯片 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种发光二极管芯片,所述发光二极管芯片包括衬底、N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层、P型电极和N型电极,所述N型半导体层、所述多量子阱层、所述P型半导体层依次层叠在所述衬底的一个表面上,所述P型半导体层上设有延伸至所述N型半导体层的凹槽,所述N型电极设置在所述凹槽内的N型半导体层上,所述P型电极设置在所述P型半导体层上;所述P型电极包括焊点和电极线,所述电极线的一端与所述焊点连接,所述电极线的另一端沿远离所述焊点的方向延伸;所述电极线包括从所述P型半导体层一侧起依次向上层叠的粘附层、反光层和打线层,所述反光层和所述打线层为Al膜;其特征在于,所述电极线还包括设置在所述反光层和所述打线层之间的复合层,所述复合层包括从所述反光层一侧起依次向上层叠的第一过渡层、导电层和第二过渡层,所述导电层为Cu膜,所述第一过渡层和所述第二过渡层为TiW膜。
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