[发明专利]石墨烯均温板结构及其制程方法在审
申请号: | 201711140075.X | 申请日: | 2017-11-16 |
公开(公告)号: | CN109520339A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 陈昶孝;张翰青;涂建良 | 申请(专利权)人: | 逢甲大学 |
主分类号: | F28D15/02 | 分类号: | F28D15/02;F28F21/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明为关于一种石墨烯均温板结构及其制程方法,该制程方法先以电解抛光制程处理基板的原粗糙表面使其光滑,再以化学气相沉积制程(CVD)在基板的光滑表面上设置石墨烯层,形成石墨烯均温板结构,用于提升传统铜均温板的散热性能。 | ||
搜索关键词: | 制程 均温板 石墨烯 化学气相沉积 处理基板 粗糙表面 电解抛光 光滑表面 散热性能 石墨烯层 基板 光滑 | ||
【主权项】:
1.一种石墨烯均温板结构的制程方法,其特征在于,其步骤包含:取具有一中空结构的一基板;形成一光滑表面于该基板之上;以及使用一化学气相沉积制程将一石墨烯层设置于该光滑表面上,且该石墨烯层为一单层原子层结构。
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