[发明专利]可挠性发光二极管制程及其结构

摘要

本发明公开了一种可挠性发光二极管制程及其结构，其步骤包括了在临时基板上形成层缓冲层,于缓冲层上形成N型氮化镓层,图案化N型氮化镓层，形成氮化镓奈米柱,于图案化氮化镓层上形成一氮化硅层,于氮化硅层上形成一电流阻挡层,于图案化电流阻挡层上形成一层绝缘层,将电流阻挡层以及图案化后的氮化镓层外露于所述的绝缘层,形成一氮化镓层,于图案化氮化镓层以及绝缘层上形成一层铟钖导电层,将临时基板以及缓冲层自前述的混合结构中剥离,将有机硅以及量子点充份混合,并填充于剥离临时基板以及缓冲层后的混合结构,以及将软性聚酰亚胺黏合于剥离临时基板以及缓冲层后的混合结构。

主权项

一种可挠性发光二极管制程，其特征在于，包括步骤：提供一临时基板；于所述临时板上制作一缓冲层；于所述缓冲层上制作一N型氮化镓层；图案化所述N型氮化镓层，形成氮化镓奈米柱；于经图案化的所述N型氮化镓层上制作一电流阻挡层；图案化所述电流阻挡层，使所述电流阻挡层成形于所述氮化镓奈米柱的自由端部；于经图案化的所述电流阻挡层上制作一组合氮化镓层；图案化所述组合氮化镓层，使所述组合氮化镓层成形于所述氮化镓奈米柱的柱身，所述电流阻挡层外露于所述组合氮化镓层；于经图案化的所述组合氮化镓层上制作一透明导电层；图案化所述透明导电层，使所述电流阻挡层外露于所述透明导电层；将所述临时基板和所述缓冲层自经图案化的所述N型氮化镓层上剥离；以及提供一可挠性基板，将所述可挠性基板黏合于经剥离所述临时基板和所述缓冲层的所述N型氮化镓层上。